在工程管理進行全打點監控的設備,
高分解能可對應CW及脈衝發振、具有輕巧型的設計。
▶產品特色
1. 可以比較良品和不良品的數據,可有效活用在生產線上(需要事前檢驗)
檢驗方法: 將板厚1.0mm的銅板重疊並進行焊接,比較良品(無裂縫)和不良品(有裂縫)的包絡線。
檢驗結果: 判定為放射光&可視光「下限異常」。
溶融金屬從裂縫間溢出,造成焊接部位表面的熱量減少,波形的高度也降低了。
放射光檢測出的波形
2. 可檢測出3種光
MM-L400A可檢測出焊接位置所產生的「放射光」(近似紅外線)「反射光」「可視光(Plasma),可比較這些光的強度變化。相較於舊機種,此機種能檢測的種類更多,較能掌握任何焊接異常狀況。
3. 簡單的操作方式
隨附的專用軟體「MS-Viewer」,操作直覺且簡單進行各種設定。
檢測開始的啟動、感測器的靈敏度調整、包絡線設定、檢測波形的比較、I/O使用狀況等等,
就算不太會使用監控裝置的人也能很好上手。
4. 可同軸/外置測量
專用的受光單元可以安裝在AMADA WELD TECH製的附CCD出射頭及掃描頭上,可選擇「外置(外部受光單元」「同軸安裝(同軸受光單元」、也可以兩種都選擇。
5. 可對應雷射掃描頭
安裝在出射頭上的受光單元檢測範圍是在幾毫米的"點"上進行測量。可對應掃描頭的受光單元能配合fΘ透鏡進行大範圍的檢測,可在"面"上進行測量。可對應敝公司產品GWM系列&CL-H系列。
◆ 使用範例(參考數據)
以下為AL材進行重疊縫焊時穿孔檢測來進行驗證的數據。
與標準型(安裝出射頭)不同,飛濺的金屬飛濺出測量光路的時間較長,容易被測出波形異常。
驗證條件: 材質:AL材 板厚:1.0mm 型態:重疊焊接 雷射輸出:800W
6. 輕量型設計
擁有業界最輕巧的設計,在生產線排程中也能不占空間。
7. 高分辨率
可在最小分辨率1μs下進行監控。不僅對應CW(連續)振盪,也可對應脈衝振盪。
8. 對應乙太網路(Ethernet)
可實現遠端即時監控、批次管理及分析各生產線的數據。
9. 對應CE標誌
有部份機器無對應CE標誌,請致電或留言詢問。
▶系統範例
讀取Lot number、從MM-L400A中取得的製造日期、加工條件、判定結果連結在一起,達成數據可追溯性。將其導入系統解決方案中,透過自動化實現高生產效率,同時MM-L400A也可確實進行焊接品質管理。
型號 | MM-L400A | |||
主機 | 尺寸 | 486(W)×597(D)×107(H) mm | ||
最大重量 | 約22kg | |||
輸入電源電壓 | 單相AC100~240V 50/60Hz | |||
消耗電力 | 110W以下 | |||
外部控制介面 | 50pin 1.27mm pitch標準接頭(母) | |||
輸入頻道 | 最大6ch+外部類比輸入2ch | |||
最小/最大檢測時間(分解能) | 1000μs-4ms(1μs)/1000μs‐400s(1ms) | |||
判定功能 | 包絡線(上下限)、積分判定(最大5個地方/1波形) | |||
動作周圍溫度/濕度 | 溫度:5~40℃/濕度:85%RH以下(不會結露) | |||
同軸受光單元 |
對應型號 | 敝公司製 附CCD相機的出射頭 GWM-STD、GWM-STD2、GWM-K系列、CL-H系列 |
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引導光 | 645~660nm(引導光ON時無法檢測) | |||
檢測波長 | 放射光(1300~1700nm)、反射光(1060~1080nm)、可視光(400~800nm) | |||
冷卻方式 | 空冷 ※3 | |||
動作周圍溫度/濕度 | 溫度:5~40℃/湿度:85%RH以下(不會結露) | |||
外部受光單元 | 對應型號 | 敝公司製出射頭 ※2 | ||
引導光 | 645~660nm(引導光ON時無法檢測) | |||
檢測波長 | 放射光(1300~1700nm)、反射光(1060~1080nm)、可視光(400~800nm) | |||
冷卻方式 | 空冷 ※3 | |||
動作周圍溫度/濕度 | 溫度:5~40℃/濕度:85%RH以下(不會結露) | |||
雷射掃描頭受光單元 | 對應型號 | GWM-STD、GWM-STD2、GWM-K系列、CL-H系列 ※2、※4 | ||
引導光 | 不可使用 | |||
檢測波長 | 放射光(1300~1700nm)、反射光(1060~1080nm)、可視光(400~800nm) | |||
冷卻方式 | 空冷 ※3 | |||
動作周圍溫度/濕度 | 溫度:5~40℃/濕度:85%RH以下(不會結露) |
※ 規格和外觀可能不會另行通知就做更改,還請您多多見諒。
※1:固定光學系統、雷射掃描頭都是通用規格
※2:若要安裝其他廠牌產品的話,請先向敝公司詢問
※3:受光單元放熱時,您必需採取冷卻措施及反射對策
※4:需要另外設置用於固定4個受光單元的支架